یادداشتهایی برای تو

داخلی حاوی فسفر کمتر و نواحی بلوریی بیشتر که در زیر حفره در ولتاژ ۱۹۰ ولت مشخص بود، در فیلم تشکیل شده در ۳۴۰ ولت مشاهده نمی‎شد. مقدار زیاد فسفر نشان می¬دهد که فسفر توسط مکانیزمی متفاوت (مثلا فرایندهای حرارتی و پلاسما) با مکانیزم ورود یون¬های فسفات در زیر ولتاژ شکست، وارد فیلم شده است
2- 5- 3- فرآیندهای اکسیداسیون تیتانیم در طول اکسیداسیون پلاسمایی الکترولیتی
کاهش ضخامت لایه تیتانیمی توسط اکسیداسیون پلاسمایی الکترولیتی از ضخامت اولیه دو میکرومتر، از مقاطع فوق ریز بررسی شده توسط میکروسکوپ الکترون روبشی مشخص می‎شود (جدول ۲-۲). کاهش ضخامت‎ها، کاهش ضخامت‎ها، با کاهش ضخامت ، تیتانیم که درپنجره آلومینیومی ترمال بریک دیگر موارد مورد استفاده قرار می گیرد با کاهش ضخامت تیتانیم معادل با دانسیته بار آندی (که با فرض اکسیداسیون تیتانیم به صورت یون‎های Ti4+ محاسبه شده بود) مقایسه شد. این مقایسه برای پوشش‎های تشکیل شده تا ۳۰۰ و ۲۴۰ ولت انجام شد، زیرا خطای آزمایش در ولتاژهای پایین تره بسیار زیاد می‎باشد. برای پوشش‎های تشکیل شده در زیر جرقه زنی تا ۳۰۰ و 3۴۰ ولت به نظر می‎رسد که ضخامت تیتانیم مصرف شده با ضخامت معادل با انتقال بار یکسان است. اما نمی‎توان از عوامل غیر فارادیک مهم در مصرف تیتانیم، مانند فرآیندهای اکسیداسیون پلاسما یا حرارتی صرف نظر کرد. در ساخت درب و پنجره آلومینیومی از فرآیند عنوان شده جهت استحکام و مقاومت بیشتر در برابر زنگ زدگی استفاده می شود علاوه بر آن، ممکن است برای تولید اکسیژن نیز بار الکتریکی مصرف شود. با توجه به تصاویر میکروسکوپ الکترون روبشی، پس از تشکیل پوششی به ضخامت ۵ الی ۷ میکرومتر در ۳۴۰ ولت، ۱٫۲۹ میکرومتر از ضخامت تیتانیم کاهش می‎یابد. بنابراین، ضخامت این پوشش، 4/4 برابر ضخامت لایه تیتانیمی اکسید شده است. این مقدار، معادل با یک لایه آناتاز با نسبت تشکیل حدودا 94/1 می¬باشد. تشکیل پوششی نسبتا حجیم در ۱۹۰ ولت که شامل مقادیر زیادی فسفر و کلسیم از الکترولیت است، فرورفتگی نسبتاً کم فصل مشترک تیتانیم/ فلز در مکان شکست دی الکتریک را توجیه می‎کند.

داخلی حاوی فسفر کمتر و نواحی بلوریی بیشتر که در زیر حفره در ولتاژ ۱۹۰ ولت مشخص بود، در فیلم تشکیل شده در ۳۴۰ ولت مشاهده نمی‎شد. مقدار زیاد فسفر نشان می¬دهد که فسفر توسط مکانیزمی متفاوت (مثلا فرایندهای حرارتی و پلاسما) با مکانیزم ورود یون¬های فسفات در زیر ولتاژ شکست، وارد فیلم شده است
2- 5- 3- فرآیندهای اکسیداسیون تیتانیم در طول اکسیداسیون پلاسمایی الکترولیتی
کاهش ضخامت لایه تیتانیمی توسط اکسیداسیون پلاسمایی الکترولیتی از ضخامت اولیه دو میکرومتر، از مقاطع فوق ریز بررسی شده توسط میکروسکوپ الکترون روبشی مشخص می‎شود (جدول ۲-۲). کاهش ضخامت‎ها، کاهش ضخامت‎ها، با کاهش ضخامت ، تیتانیم که درپنجره آلومینیومی ترمال بریک دیگر موارد مورد استفاده قرار می گیرد با کاهش ضخامت تیتانیم معادل با دانسیته بار آندی (که با فرض اکسیداسیون تیتانیم به صورت یون‎های Ti4+ محاسبه شده بود) مقایسه شد. این مقایسه برای پوشش‎های تشکیل شده تا ۳۰۰ و ۲۴۰ ولت انجام شد، زیرا خطای آزمایش در ولتاژهای پایین تره بسیار زیاد می‎باشد. برای پوشش‎های تشکیل شده در زیر جرقه زنی تا ۳۰۰ و 3۴۰ ولت به نظر می‎رسد که ضخامت تیتانیم مصرف شده با ضخامت معادل با انتقال بار یکسان است. اما نمی‎توان از عوامل غیر فارادیک مهم در مصرف تیتانیم، مانند فرآیندهای اکسیداسیون پلاسما یا حرارتی صرف نظر کرد. در ساخت درب و پنجره آلومینیومی از فرآیند عنوان شده جهت استحکام و مقاومت بیشتر در برابر زنگ زدگی استفاده می شود علاوه بر آن، ممکن است برای تولید اکسیژن نیز بار الکتریکی مصرف شود. با توجه به تصاویر میکروسکوپ الکترون روبشی، پس از تشکیل پوششی به ضخامت ۵ الی ۷ میکرومتر در ۳۴۰ ولت، ۱٫۲۹ میکرومتر از ضخامت تیتانیم کاهش می‎یابد. بنابراین، ضخامت این پوشش، 4/4 برابر ضخامت لایه تیتانیمی اکسید شده است. این مقدار، معادل با یک لایه آناتاز با نسبت تشکیل حدودا 94/1 می¬باشد. تشکیل پوششی نسبتا حجیم در ۱۹۰ ولت که شامل مقادیر زیادی فسفر و کلسیم از الکترولیت است، فرورفتگی نسبتاً کم فصل مشترک تیتانیم/ فلز در مکان شکست دی الکتریک را توجیه می‎کند.